SEMI E109 kombiniert Elemente aus SEMI E87 (Carrier Management) und SEMI E90 (Substrate Tracking), ist jedoch speziell für die Handhabung und Verarbeitung von Masken (Reticles) ausgelegt. Er findet vor allem bei Lithografieanlagen und Reticle-Stockern Anwendung.
Der Standard teilt die grundlegenden Prinzipien und Konzepte mit E87 und E90. Er beschreibt das Verhalten der Geräte über Zustandsmodelle und definiert Objekttypen für Pods (Reticle Carrier), Reticles und Reticle Locations. Diese Objekttypen basieren auf SEMI E39 (Object Services).
Die Zuordnung der in SEMI E109 beschriebenen Dienste zum SECS-II-Protokoll ist in einem eigenen Dokument festgelegt: SEMI E109.1.
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Roman Olwig
Senior Sales Manager
Konnektivität, Integration und Bahnautomation